比亞迪入股這家半導體設備廠

作者 | 發(fā)布日期 2023 年 07 月 11 日 17:02 | 分類 碳化硅SiC

近日,長三角一體化示范區(qū)(浙江嘉善)嘉芯半導體設備科技有限公司發(fā)生工商變更,新增股東比亞迪股份有限公司、深圳市創(chuàng)啟開盈創(chuàng)業(yè)投資合伙企業(yè)(有限合伙);公司注冊資本從3.71億元增加到4.12億元。

2021年,以寧波芯恩為主體攜手掌握離子注入機技術的萬業(yè)企業(yè),成立嘉芯半導體,萬業(yè)和寧波芯恩的持股比重分別為80%和20%。嘉芯半導體聚焦半導體核心設備賽道,覆蓋包括刻蝕、薄膜沉積、快速熱處理及退火、清洗設備等設備環(huán)節(jié)。

據(jù)悉,寧波芯恩成立于 2017 年,法定代表人為中芯國際創(chuàng)始人張汝京。

圖片來源:拍信網(wǎng)正版圖庫

據(jù)嘉芯半導體董事長兼CEO周偉芳介紹,嘉芯半導體投資興建的109畝產(chǎn)業(yè)園區(qū)僅用8個月時間便完成了新建廠房的封頂,預計即將完成全部的竣工驗收,下半年開始搬入,未來將成為華東地區(qū)最大的集成電路前道設備研發(fā)制造基地之一。

項目總投資20億元,規(guī)劃面積達109畝,擁有14萬方廠房面積,覆蓋刻蝕機、薄膜沉積、快速熱處理及褪火等多款集成電路核心前道設備,未來將形成種類齊全的設備基地。

目前,嘉芯半導體累計訂單已突破4.6億元。其中包括氮化硅等離子刻蝕機、金屬等離子刻蝕機、側墻等離子刻蝕機等在內(nèi)的刻蝕設備,高密度等離子薄膜沉積設備(HDP-CVD)、二氧化硅等離子薄膜沉積設備(PECVD)、摻雜硼磷二氧化硅薄膜化學沉積設備(SACVD)、鈦/氮化鈦沉積設備(MOCVD)、鋁銅金屬濺射設備(PVD)等在內(nèi)的薄膜沉積設備,以及快速熱處理(RTP)、雙燃燒+雙水洗尾氣處理等多個品類。(文:集邦化合物半導體 Amber整理)

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