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18臺(tái)碳化硅整線濕法設(shè)備，創(chuàng)微微電子再次中標(biāo)

huang, Mia — Wed, 10 Jul 2024 06:07:05 +0000

7月9日，光伏設(shè)備大廠捷佳偉創(chuàng)宣布，繼4月份半導(dǎo)體碳化硅整線濕法設(shè)備訂單并完成合同簽署后，近日公司子公司創(chuàng)微微電子（常州）有限公司（以下簡(jiǎn)稱：創(chuàng)微微電子）再次斬獲另一家半導(dǎo)體頭部企業(yè)整線濕法設(shè)備訂單，目前已完成合同簽訂工作。

據(jù)介紹，此次簽訂的合同標(biāo)的位于該客戶新產(chǎn)業(yè)園的碳化硅產(chǎn)線，交付的機(jī)臺(tái)數(shù)量多達(dá)18臺(tái)（套），為之前4月簽訂的合同交付量的2倍，可覆蓋碳化硅器件刻蝕清洗全段工藝。

其中包含創(chuàng)微微電子全新研發(fā)的Swing-type Dry干燥設(shè)備，該設(shè)備可同時(shí)兼容6/8吋產(chǎn)線，極大地提升了設(shè)備開(kāi)發(fā)效率。同時(shí)也再次鞏固了創(chuàng)微微電子6/8吋槽式及單片全自動(dòng)濕法刻蝕清洗設(shè)備替代進(jìn)口設(shè)備的能力。

source：捷佳偉創(chuàng)

據(jù)了解，官網(wǎng)資料顯示，創(chuàng)微微電子成立于2020年9月，專注于集成電路濕法清洗工藝設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務(wù)。其主要產(chǎn)品有4到12英寸批式及單晶圓刻蝕清洗濕法工藝設(shè)備，應(yīng)用范圍涵蓋了Micro LED、第三代化合物、微機(jī)電、后端封裝及集成電路IDM和代工大廠所需的濕法工藝需求，滿足近90%濕法工藝步驟，包含有光刻膠去除、氧化膜刻蝕、金屬膜刻蝕、氮化硅刻蝕、爐管前清洗等。
據(jù)悉，2022年7月，由創(chuàng)微微電子研發(fā)生產(chǎn)的8英寸Cassette-less清洗設(shè)備交付至積塔半導(dǎo)體并開(kāi)始驗(yàn)證階段，運(yùn)行情況良好。與此同時(shí)，創(chuàng)微微電子成功中標(biāo)積塔半導(dǎo)體后續(xù)10余臺(tái)清洗設(shè)備訂單，制程涵蓋8英寸至12英寸。

目前，創(chuàng)微微電子已推出4-8英寸全自動(dòng)Cassette type清洗設(shè)備、8英寸全自動(dòng)Cassette-less清洗設(shè)備及4-8腔Single tool清洗設(shè)備，成功導(dǎo)入青島芯恩、成都德州儀器、積塔半導(dǎo)體等國(guó)內(nèi)頭部芯片企業(yè)并獲得重復(fù)性訂單。

值得一提的是，去年12月，蘇州市、無(wú)錫市、常州市工信局共同發(fā)布2023年蘇錫常首臺(tái)（套）重大裝備擬認(rèn)定公示名單，創(chuàng)微微電子的單晶圓刻蝕清洗設(shè)備成功通過(guò)公示認(rèn)定，實(shí)現(xiàn)首臺(tái)套零突破。（捷佳偉創(chuàng)、集邦化合物半導(dǎo)體整理）

更多SiC和GaN的市場(chǎng)資訊，請(qǐng)關(guān)注微信公眾賬號(hào)：集邦化合物半導(dǎo)體。

覆蓋SiC刻蝕清洗工藝，設(shè)備廠創(chuàng)微微電子新簽訂單

chen, zac — Tue, 23 Apr 2024 10:00:14 +0000

4月22日，據(jù)捷佳偉創(chuàng)官微消息，其子公司創(chuàng)微微電子（常州）有限公司（以下簡(jiǎn)稱創(chuàng)微微電子）近日中標(biāo)半導(dǎo)體SiC整線濕法設(shè)備訂單并完成合同簽署。

圖片來(lái)源：拍信網(wǎng)正版圖庫(kù)

捷佳偉創(chuàng)表示，此次中標(biāo)，標(biāo)志著創(chuàng)微微電子6/8英寸槽式及單片全自動(dòng)濕法刻蝕清洗設(shè)備已經(jīng)覆蓋了SiC器件刻蝕清洗全段工藝，具備替代進(jìn)口設(shè)備的能力。

據(jù)介紹，創(chuàng)微微電子的6/8英寸全自動(dòng)濕法刻蝕清洗設(shè)備有優(yōu)異的顆粒去除能力、金屬污染控制能力、刻蝕均勻性控制能力，相關(guān)性能指標(biāo)對(duì)標(biāo)國(guó)際一線大廠；同時(shí)，該設(shè)備國(guó)產(chǎn)化零部件占比高并已獲得多家一線FAB廠量產(chǎn)驗(yàn)證，具有成本優(yōu)勢(shì)；此外，該設(shè)備擁有自主開(kāi)發(fā)軟件，可根據(jù)客戶工藝需求定制設(shè)備排程，實(shí)現(xiàn)客戶產(chǎn)能最大化。

官網(wǎng)資料顯示，創(chuàng)微微電子成立于2020年9月，專注于集成電路濕法清洗工藝設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務(wù)。其主要產(chǎn)品有4到12英寸批式及單晶圓刻蝕清洗濕法工藝設(shè)備，應(yīng)用范圍涵蓋了Micro LED、第三代化合物、微機(jī)電、后端封裝及集成電路IDM和代工大廠所需的濕法工藝需求，滿足近90%濕法工藝步驟，包含有光刻膠去除、氧化膜刻蝕、金屬膜刻蝕、氮化硅刻蝕、爐管前清洗等。

據(jù)悉，2022年7月，由創(chuàng)微微電子研發(fā)生產(chǎn)的8英寸Cassette-less清洗設(shè)備交付至積塔半導(dǎo)體并開(kāi)始驗(yàn)證階段，運(yùn)行情況良好。與此同時(shí)，創(chuàng)微微電子成功中標(biāo)積塔半導(dǎo)體后續(xù)10余臺(tái)清洗設(shè)備訂單，制程涵蓋8英寸至12英寸。

值得一提的是，去年12月，蘇州市、無(wú)錫市、常州市工信局共同發(fā)布2023年蘇錫常首臺(tái)（套）重大裝備擬認(rèn)定公示名單，創(chuàng)微微電子的單晶圓刻蝕清洗設(shè)備成功通過(guò)公示認(rèn)定，實(shí)現(xiàn)首臺(tái)套零突破。（集邦化合物半導(dǎo)體Zac整理）

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