全球首發(fā),新一代SiC晶體生長(zhǎng)用材料來了

作者 | 發(fā)布日期 2023 年 04 月 28 日 17:20 | 分類 碳化硅SiC

隨著導(dǎo)電型SiC襯底的逐漸量產(chǎn),對(duì)工藝的穩(wěn)定性、可重復(fù)性都提出更高的要求。特別是缺陷的控制,爐內(nèi)熱場(chǎng)微小的調(diào)整或漂移,都會(huì)帶來晶體的變化或缺陷的增加。

后期,更要面臨“長(zhǎng)快、長(zhǎng)厚、長(zhǎng)大”的挑戰(zhàn),除了理論和工程的提高外,還需要更先進(jìn)的熱場(chǎng)材料作為支撐。使用先進(jìn)材料,長(zhǎng)先進(jìn)晶體。

熱場(chǎng)中坩堝的材料,石墨、多孔石墨、碳化鉭粉等使用不當(dāng),會(huì)帶來碳包裹物增多等缺陷。另外在有些應(yīng)用場(chǎng)合,多孔石墨的透氣率不夠,需要額外開孔來增加透氣率。透氣率大的多孔石墨,面臨加工、掉粉、蝕刻等挑戰(zhàn)。

日前,恒普科技全球首發(fā),推出了全新一代SiC晶體生長(zhǎng)熱場(chǎng)材料,多孔碳化鉭。

碳化鉭的強(qiáng)度和硬度都很高,做成多孔狀,更是挑戰(zhàn)。做成孔隙率大、純度高的多孔碳化鉭更是極具挑戰(zhàn)。恒普科技突破性的推出大孔隙率的多孔碳化鉭,孔隙率最大可以做到75%,達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平。

此外,氣相組元過濾,調(diào)整局部溫度梯度,引導(dǎo)物質(zhì)流方向,控制泄露等都可以使用;可與恒普科技另外一款固體碳化鉭(致密)或碳化鉭涂層,形成局部不同流導(dǎo)的構(gòu)件;部分構(gòu)件可以重復(fù)使用。

技術(shù)參數(shù)

孔隙率??≤75%??國(guó)際領(lǐng)先

形狀:片狀、筒狀 ?國(guó)際領(lǐng)先

孔隙度均勻

恒普科技 |零實(shí)驗(yàn)室致力于材料的基礎(chǔ)研究和創(chuàng)新方向探索。

來源:恒普科技

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