德國半導體沉積設備廠商愛思強（AIXTRON）昨日（11/21）宣布，半導體代工廠BelGaN將采用公司的新型G10-GaN外延系統(tǒng)用以擴展自身業(yè)務。
據(jù)介紹，新型G10-GaN系統(tǒng)擁有一流的性能、全新緊湊設計以及可以大大降低每片晶圓的整體成本。該系統(tǒng)初始配置為8x150mm規(guī)格，將于2023年底之前交付到位于比利時奧德納爾德的BelGaN生產基地，并將在未來升級到5x200mm規(guī)格。
BelGaN是歐洲領先的GaN（氮化鎵）汽車級半導體開放式代工廠，近期宣布將生產依托650V eGaN技術的第一代產品。
G10-GaN系統(tǒng)用于Si、SOI和新型工程襯底的GaN外延片制造，可進一步拓寬額定電壓為400-1200V的功率芯片使用范圍。該系統(tǒng)針對多種功率GaN產品，可幫助提高產品性能、車用品質、可靠性以及產量并且降低成本。
圖片來源：拍信網(wǎng)正版圖庫
“使用MOCVD（金屬有機化學氣相沉積技術）的GaN外延是所有功率GaN技術中最關鍵的工藝，既可以創(chuàng)新器件架構，提高產品性能、晶圓良率和質量，又可以降低GaN產品的成本。這推動了GaN在電力電子領域的范式轉變，在電動汽車、數(shù)據(jù)通信、能源轉換等領域開辟了快速增長的市場，向電氣化、碳中和社會更進一步。愛思強全新G10平臺的高水平生產力、一致性和低成本給我們留下了深刻的印象?！盉elGaN首席技術官兼業(yè)務開發(fā)副總裁Marnix Tack表示：“愛思強位于GaN Valley TM生態(tài)系統(tǒng)之中，與其團隊的合作可幫助我們快速實現(xiàn)創(chuàng)新和生產目標?！?/p>
據(jù)介紹，全新的G10-GaN集群解決方案擁有愛思強當前的G5+ C工具相同的基本原理，并在其基礎上，擴展了每個功能的性能指標：在相同的潔凈室生產面積的情況下，新平臺的生產力比原先提高了兩倍，同時讓所生產的材料平均性能提升一個檔次，為愛思強的客戶解鎖了新的競爭力。
與市場上的其他設備相比，G10-GaN可實現(xiàn)成本降低 25%以上，為愛思強的客戶提供了很大的幫助。G10-GaN還擁有潔凈室每平方米的最高吞吐量，并且通過其端到端的全自動化，成為唯一專為硅晶圓廠設計的MOCVD系統(tǒng)。
SiC/GaN市場爆火，強勢拉動了相關設備產商的營收。
根據(jù)愛思強此前公布2023第三季度財報顯示，前三季度愛思強84%的營收來自設備銷售，16%來自售后服務與備件業(yè)務。GaN和SiC應用領域高需求帶動設備銷售增長，是愛思強前三季度營收成長的主要原因。
對于Q3業(yè)績增長的原因，愛思強指出，主要是公司推出了G10-GaN，完成了新一代G10產品系列的推出。
除此之外，愛思強曾表示，集團正在為幾家重要客戶的生產設施建設提供支持，所提供的設備可幫助客戶實現(xiàn)SiC/GaN器件的大規(guī)模生產，下單用戶其中就有三星。此前，三星就已決定購買愛思強的MOCVD設備，用于加工GaN和SiC晶圓，投資規(guī)模預計至少達到7000億-8000億韓元（約為5.4億-6.2億美元）。愛思強能獲得這些大廠的訂單，G10-SiC、G10-AsP和G10-GaN等新一代G10產品系列發(fā)揮了重要作用。（集邦化合物半導體Rick編譯）
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